Online Library TheLib.net » Основы радиационных технологий . Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+ –p–p+ (p+–n–n+)- типа: Методические указания
cover of the book Основы радиационных технологий . Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+ –p–p+ (p+–n–n+)- типа: Методические указания

Ebook: Основы радиационных технологий . Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+ –p–p+ (p+–n–n+)- типа: Методические указания

00
08.02.2024
0
0
В методических указаниях рассматриваются принципы расчета режимов ионной имплантации при формировании структур n+–p–p+(p+–n–n+)-типа и профилей распределения имплантированной примеси. Излагается методика расчета в программе Math Cad 2001. Методические указания предназначены для студентов, обучающихся по специальностям 150601 «Материаловедение и технология новых материалов» и 210104 «Микроэлектроника и твердотельная электроника».
Download the book Основы радиационных технологий . Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+ –p–p+ (p+–n–n+)- типа: Методические указания for free or read online
Read Download
Continue reading on any device:
QR code
Last viewed books
Related books
Comments (0)
reload, if the code cannot be seen