Ebook: Подавление микродуг в ионно-плазменных процессах

Статья. Опубликована в сборнике научных трудов Вопросы проектирования и производства конструкций летательных аппаратов. Х., ХАИ, 2010, с. 304 - 310.
Во многих технологических плазменных процессах и операциях, где зачастую основная роль принадлежит тлеющему разряду, возникает проблема несанкционированного его перехода в дуговой разряд. Такое самопроизвольное дугообразование наблюдается при азотировании в стационарном тлеющем разряде, при ионной очистке перед нанесением покрытия в методе КИБ. Близкие проблемы, связанные с возникновением «униполярных дуг» и, как результат, с последующим загрязнением и охлаждением плазмы, имеют место в исследованиях по управляемому термоядерному синтезу.
В ионно-плазменных технологических процессах подобное дугообразование является одним из основных недостатков, снижающих качество обработки. Снижение качества заключается в том, что возникающие катодные пятна оставляют на обрабатываемой поверхности характерный автограф - эрозионный след в виде «елочки». Таким образом, предотвращение этого отрицательного явления – дугообразования, является актуальной задачей, полноценное решение которой позволит существенно повысить качество обработки изделий в ионно-плазменных технологических процессах.